LYACINE ALOUI - Soutenance en cours de traitement

ayyacinealoui779@gmail.com
Techniques maîtrisées :
Mesures d’énergie de surface par l’angle de contact liquide-solide. MEB microscopie électronique à balayage DRX diffraction des rayons X EPMA et SIMS pour les analyses chimiques Interférométrie et microscopie à forces atomique (AFM) Essais mécaniques pour l’étude de la résistance des matériaux (dureté, traction, nanoindentaion, protection de surfaces, fluage et résilience...)
Compétences :
informatique

Expérience professionnelle :
CDI depuis le 1 octobre 2012
Domaine d'activité : Métallurgie
Type de contrat : Entreprises
Sujet de recherche ou mission professionnelle :Salarié en CDI à la Fonderies MESSIER à Narcastet
Unité de recherche ou entreprise : Fonderies Messier
NARCASTET

Doctorat Sciences et Génie des Matériaux

Thèse soutenue le 2 octobre 2012 - Institut National Polytechnique de Toulouse

Ecole doctorale : SDM - SCIENCES DE LA MATIERE - Toulouse

Sujet : Dépôt Chimique en Phase Vapeur d’Al, Cu et Fe en vue d’élaboration de films composés de phases intermétalliques

Mots-clés de la thèse : CVD,Approximant,Al,Cu,Fe,Intermétalliques

Direction de thèse : Constantin VAHLAS

Unité de recherche : CIRIMAT - Centre Interuniversitaire de Recherche et d'Ingénierie des Matériaux UMR 5085 - Toulouse

Diplôme national de master - Nanophysique

- INP

Production scientifique

- L. Aloui, Th. Duguet, F. Haidara, M-C. Record, D. Samélor, F. Senocq, D. Mangelinck, C. Vahlas 2012. Al-Cu intermetallic coatings processed by sequential metalorganic chemical vapor deposition and post deposition annealing. Applied Surface Science, vol258, pp 6425-6430.,
- Th. Duguet, F. Senocq, L. Aloui, D. Samélor, C. Vahlas. 2012. Monitoring microstructure and phase transitions in thin films by high temperature resistivity measurements. Surface and Interface Analysis, , doi 10.1002/sia.4854
- A-L. Thomann, C. Vahlas, L. Aloui, D. Samélor, A. Caillard, N. Shaharil, R. Blanc, E. Millon. 2011. Conformity of aluminum thin films deposited onto micro-patterned silicon wafers by pulsed laser deposition, magnetron sputtering and chemical vapor deposition. Chemical Vapor Deposition, 17(10-12), 366-374,
- V.V. Krisyuk, L. Aloui, N. Prud’homme, S. Sysoev, F. Senocq, D. Samélor, C. Vahlas. 2011. CVD of Pure Copper Films from Amidinate Precursor Electrochemical and Solid Sate Letters, 14(3), D26-D29.,
- V.V. Krisuyk, A.N. Gleizes, L. Aloui, A. Turgambaeva, B. Sarapata, N. Prud’homme, F. Senocq, D. Samélor, A. Zielinska-Lipiec, D. deCaro, C. Vahlas 2010. Metalorganic chemical vapor deposition of iron-containing films from novel amidinate precursors. J. Electrochem. Soc, 157(8), D454-D461,
- V.V. Krisuyk, L. Aloui, N. Prud’homme, B. Sarapata, F. Senocq, D. Samélor, C. Vahlas 2009. CVD of pure copper films from a novel amidinate precursor. ECS Transactions, 25(8), 581-586,
- A.N. Gleizes, V.V. Krisyuk, L. Aloui, A.E. Turgambaeva, B. Sarapata, N. Prud’homme, F. Senocq, D. Samélor, A. Zielinska-Lipiec, F. Dumestre and C. Vahlas, 2009. Iron amidinates as precursors for the MOCVD of iron-containing thin films. ECS Transactions, 25(8), 181-188,
- T.C. Xenidou, A.G. Boudouvis, N.C. Markatos, N. Prud’homme, L. Aloui and C. Vahlas 2009. Shape optimization of a showerhead system for the control of growth uniformity in a MOCVD reactor using Evolutionary Algorithms., , 2009, ECS Transactions, 25(8), 1053-1060,
- C. Vahlas, B. Caussat, F. Senocq, W.L. Gladfelter, L. Aloui, T. Moersch 2007. A delivery system for precursor vapors based on sublimation in a fluidized bed. Chemical Vapor Deposition, 13(2-3), 123-129,

Informations complémentaires :
football et natation
Langues Vivantes : Anglais C2 - Courant - Français C1 - Avancé - Arabe C2 - Maternel - Berbère C2 - Courant

Dernière mise à jour le 7 septembre 2012