Soutenance de thèse de Benjamin RAMOS

Etude d’un diélectrique de type ferroélectrique pour applications aux transistors organiques: Influence sur les performances électriques


Titre anglais : Study of ferroelectric material as gate dielectric for organic transistor applications: Impact on electrical performances
Ecole Doctorale : GEETS - Génie Electrique Electronique,Télécommunications et Santé : du système au nanosystème
Spécialité : Génie Electrique
Etablissement : Université de Toulouse
Unité de recherche : UMR 5213 - LAPLACE - Laboratoire PLAsma et Conversion d'Énergie


Cette soutenance a eu lieu mardi 05 décembre 2017 à 11h00
Adresse de la soutenance : Batiment U4 118 Route de Narbonne Toulouse - salle Amphi Concorde

devant le jury composé de :
Marc TERNISIEN   Maître de Conférences   LAPLACE (Université de Toulouse 3 Paul Sabatier)   Directeur de thèse
David BUSO   Maître de Conférences   LAPLACE (Université de Toulouse 3 Paul Sabatier)   CoDirecteur de thèse
Kamal LMIMOUNI   Professeur   IEMN (Université de Lille 1)   Rapporteur
Christine VIDELOT ACKERMANN   Chargé de Recherche   CINAM (Université Aix Marseille)   Rapporteur
Jean-Pascal CAMBRONNE   Professeur   LAPLACE (Université de Toulouse 3 Paul Sabatier)   Examinateur
Fabien PASCAL   Professeur   IES (Université Montpellier 2)   Examinateur


Résumé de la thèse en français :  

Cette thèse porte sur l’étude d’un diélectrique de type ferroélectrique pour une application aux transistors organiques. La configuration adoptée est de type Bottom-Gate Top-Contact. Le matériau semiconducteur utilisé est un transporteur d’électrons.
Dans la première partie de ce projet, nous avons réalisé des transistors organiques à effet de champ (OFETs) avec une couche de PMMA comme diélectrique de grille. Ce matériau, très étudié et connu, permet d’avoir un composant qui sert de référence. Nous avons également mené une étude sur la longueur de canal, la vitesse de dépôt du semiconducteur organique et l’épaisseur du diélectrique en vue d’en déduire l’influence de ces grandeurs sur les performances électriques des OFETs. Après l’optimisation de ces paramètres, nous avons démontré une amélioration de la mobilité des porteurs, une augmentation du rapport de courant on/off, une amélioration de la capacité et une diminution des tensions d’alimentations et de seuil. Ces résultats ont été interprétés à l’aide de caractérisations électriques.
Dans un second temps, le diélectrique ferroélectrique Poly(vinylidenefluoride-co-trifluoroethylene) (P(VDF-TrFE)) a été ajouté au composant afin de réaliser une structure bicouche de diélectrique avec le PMMA. Cette dernière permet de combiner les avantages de la haute permittivité relative du P(VDF-TrFE) et de la faible rugosité du film de PMMA en contact avec le semiconducteur. Une étude comparative a été effectuée avec les transistors de référence. Il en ressort, pour une épaisseur identique de diélectrique, une diminution des tensions d’alimentations et de seuil et une amélioration de la mobilité des charges avec l’OFET implémentant le matériau ferroélectrique. La discussion de ces résultats est appuyée par des caractérisations électriques et morphologiques.

 
Résumé de la thèse en anglais:  

This thesis deals with the study of a ferroelectric material as gate dielectric for organic transistor applications. The configuration adopted is Bottom-Gate Top-Contact. The semiconductor used is an electron transport material.
In a first part, we made organic field effect transistors (OFETs) with a layer of PMMA as a gate dielectric. This material, very studied and well known, serves as reference. We also carried out a study on the channel length, the organic semiconductor deposition rate and dielectric thickness in order to deduce the impact of these parameters on OFETs performances. After optimization, we have demonstrated an improvement of the mobility, on/off current ratio, capacitance and a reduction of supply and threshold voltages. These results have been interpreted using electrical characterizations.
In a second step, the poly (vinylidenefluoride-co-trifluoroethylene) (P (VDF-TrFE)) ferroelectric material was added to provide a two-layer dielectric structure with PMMA. This OFET combine the advantages of high permittivity of P(VDF-TrFE) and low roughness of PMMA. A comparative study was carried out with reference transistors. For same dielectric thickness, a reduction of the supply and threshold voltages and an improvement of the mobility is obtained for the OFET implementing ferroelectric material. The discussion of these results is supported by electrical and morphological characterizations.

Mots clés en français :transistors organiques à effet de champ,PVDF-TrFE,matériau ferroélectrique,diélectrique de grille
Mots clés en anglais :   organic field-effect transistors,PVDF-TrFE,ferroelectric material,gate dielectric