Pablo ACOSTA ALBA - Soutenance en cours de traitement


Adresse Professionnelle
Parc Technologique des Fontaines 38190
Bernin FRANCE
poepablo@gmail.com
poepablo@gmail.com
En recherche d'emploi
Disponibilité : mai 2014
Mobilité : Tous les pays

Expérience professionnelle :
CDI
Type de contrat : Entreprises
Sujet de recherche ou mission professionnelle :CDI Soitec
Unité de recherche ou entreprise : Soitec

Doctorat Physique de la Matière


Thèse soutenue le 27 mai 2014 - Université de Toulouse

Ecole doctorale : SDM - SCIENCES DE LA MATIERE - Toulouse

Sujet : Influence des étapes du procédé SmartcutTM sur l'uniformité d'épaisseur de la couche de silicium dans le SOI ultrafin

Mots-clés de la thèse : Films minces,Rugosité / épaisseur,Caractérisation multi-échelle,,

Direction de thèse : Alain CLAVERIE

Co-encadrement de thèse : Oleg KONONCHUK

Unité de recherche : CEMES - Centre d'Elaboration de Matériaux et d'Etudes Structurales UPR 8011 - Toulouse
Intitulé de l'équipe : Nanomatériaux

Diplôme national de master - Master II matériaux et nanostructures

obtenu en juillet 2010 - Université Blaise Pascal de Clermont-Ferrand (63)
Option : Matériaux et nanostructures,

Production scientifique

- Pablo E. Acosta-Alba, Oleg Kononchuk, Christophe Gourdel and Alain Claverie 2014. Surface self-diffusion of silicon during high temperature annealing   Journal of Applied Physics, 115, 134903, http://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/115/13/10.1063/1.4870476
- W. Schwarzenbach, N. Daval, V. Barec, O. Bonnin, P. Acosta-Alba, C. Maddalon, A. Chibko, T. Robson, B.-Y. Nguyen & C. Maleville 2013. Atomic Scale Thickness Control of SOI Wafers for Fully Depleted Applications   ECS Meeting, Meet. Abstr. 2013 MA2013-01(21): 880,
- Pablo E. Acosta-Alba, Oleg Kononchuk, Gregory Riou, Cecile Moulin, Christelle Bertrand-Giuliani, and Alain Claverie 2013. Multi-Scale Thickness and Roughness Characterization of Thin Silicon-On-Insulator Films   ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2 (9) P357-P361,
- Pablo Acosta-Alba , Christophe Gourde1 and Oleg Kononchuk 2013. Smoothening by self-diffusion of silicon during annealing in a rapid processing chamber   Solid State Phenomena, Vols. 205-206 pp 364-369,
- Oleg Kononchuk, Pablo Acosta-Alba, Christophe Gourdel 2012. SOI Technology for Fully Depleted CMOS applications   The 6th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials (JSPS Si Symposium), Nov. 19-23, 2012, Kona, Hawaii, USA, ,
- G. Riou, P. Acosta, M.Darwin, B.Kamenev 2011. Advanced metrologies for topography and thickness measurements   AIP Conference Proceedings / FRONTIERS OF CHARACTERIZATION AND METROLOGY FOR NANOELECTRONICS: 2011, AIP Conf. Proc. 1395, pp. 212-216,

Langues Vivantes : Français C2 - Courant - Espagnol C2 - Maternel - Anglais B2 - Intermédiaire supérieur
Dernière mise à jour le 15 avril 2014